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長期以來，我國的光刻技術落后于先進國家，近年來，在國家政策的扶持下，我國光刻機技術也開始了飛速的發展，本文北京研精畢智信息咨詢有限公司對中國光刻機發展現狀進行了分析。

1、行業政策

2016年8月國務院印發《“十三五”國家科技創新規劃》，提出攻克14nm刻蝕設備、薄膜設備、摻雜設備等高端制造裝備及零部件，突破28nm沉沒式光刻機及核心部件，研發14nm邏輯與存儲芯片成套工藝相應系統封測技術，形成28-14nm裝備、材料、工藝、封測等較完整的產業鏈。

2017年科技部發布《國家高新技術產業開發區“十三五”規劃建議》，優化產業結構，推進集成電路及專用裝備關鍵核心技術突破和應用。

2、市場規模

近年來，中國光刻機有著較大的進步。2019年我國光刻機市場規模就已超過200億元，占據全球市場的20%以上。隨著國內光刻機制造商的成長和崛起，2021年我國光刻機市場規模達到了300億元以上，上海微電子等企業生產的光刻機在全球具有著一定的市場占有率。

3、進口情況

在光刻機進口貿易方面，2017-2020年我國光刻機進口數量和進口金額呈現先降低后上升趨勢。2020年，我國進口光刻機數量約240臺，進口金額為19億美元左右；2021年進口數量和進口金額分別約為250臺和21億美元。

從進口來源地看，我國從日本進口的光刻機數量最多，在125臺以上。從進口金額看，我國從荷蘭進口的光刻機金額最高，占進口總額的90%左右，這主要是因為荷蘭ASML在全球光刻機市場有著絕對的龍頭地位。

4、出口情況

從光刻機出口貿易方面看，2017-2020年我國光刻機出口數量和出口金額呈現先上升后下降的趨勢。2020年我國光刻機出口數量約40臺，出口金額約9550萬美元；2021年出口數量和金額分別下降到20臺、1650萬美元。

從出口企業注冊地看，我國出口的光刻機大部分由上海企業出口，主要是因為上海地區分布著我國光刻機的領先企業——上海微電子和芯源微。其次是江蘇、安徽、山東和浙江地區。

5、下游分析

光刻機下游主要為半導體行業，整體需求受半導體產業影響較大。隨著全球和中國半導體市場規模擴張，光刻膠需求保持穩步增長。據北京研精畢智團隊的數據小時，2021年中國集成電路銷售額超過1萬億元，同比增長18%以上。

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