北京研精畢智信息咨詢有限公司

光刻機是光刻工藝的核心設備，也是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備，包含上萬個零部件，集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域等多項頂尖技術。作為整個芯片工業制造中必不可少的精密設備——光刻機，其光刻的工藝水平直接決定芯片的制程和性能水平，因此光刻機更是被譽為半導體工業皇冠上的明珠。

一、光刻機行業概述

1、行業定義

光刻機又名掩膜對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印刷到硅片上。光刻機是半導體產業中最關鍵的設備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。

2、產業鏈結構

光刻機的生產極為復雜，上游主要配套材料及設備，如光罩、光刻膠、光刻氣體、配套設備、涂膠設備、顯影設備，還包括激光器、能量控制器、光束矯正器等光刻機組件；中游為不同光刻機的生產；下游為應用領域，主要包括芯片制造、芯片對接、功率器件制造、LED、MEMS制造等。

3、分類

光刻機主要分為有掩膜光刻機和無掩膜光刻機。無掩膜光刻機又分為電子束/激光/離子束直寫光刻機，有掩膜光刻機分為接近/接觸/投影光刻機。

二、全球及中國光刻機行業發展現狀分析

1、市場銷量

受益于下游晶圓的巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的發展，帶動相關芯片的需求，光刻機銷售額與銷量穩步提升。根據北京研精畢智信息咨詢有限公司的數據顯示，2015-2020年，全球光刻機銷售量總體增長，2020年達413臺，同比增長16.7%。2021年全球光刻機銷量約450臺，預計在2023年全球光刻機銷售量有望突破500臺。

2、銷量結構

光刻機隨著光刻技術的更迭，從最初的g-line，i-line歷經KrF、ArF發展到了如今的EUV。目前全球光刻機銷量仍以中低端產品(KrF、i-Line)為主，合計達264臺，占比約65%;其次分別為ArF immersio、Arf dry、EUV，占比分別為19%、8%及8%。

3、營業收入

截止至2021年，全球TOP3企業阿斯麥、尼康、佳能的總營收達到1070億元左右，同比2020年增長9%左右，其中阿斯麥占比超過八成。主要增長動力來源于EUV出貨帶動，隨著下游集成電路需求持續復雜和精細，工藝制程愈加接近極限，高端光刻機需求將持續擴張，帶動整體光刻機營收上升。數據顯示，2021年阿斯麥營收來源中中國超百億元，與國內晶圓產能擴張符合。

4、競爭格局

從TOP3企業的競爭格局看，當前荷蘭ASML公司占比達62%，出貨量約260臺，遠高于尼康和佳能，尼康和佳能市場銷量占全球總銷售量的7%和30%。從銷售額看，ASML仍然占據市場龍頭地位，市場份額高達91%，佳能和尼康占比為6%和3%。

研精畢智市場調研網隸屬于北京研精畢智信息咨詢有限公司（北京研精畢智英文簡稱“XYZResearch），是國內領先的行業研究及企業研究服務供應商。通過有效分析復雜數據和各類渠道信息，助力客戶深入了解所關注的細分市場，包括市場空間、競爭格局、市場進入策略、用戶結構等，包括深度研究目標企業組織架構，市場策略、銷售結構、戰略規劃等，幫助企業做出更有價值的商業決策。