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光刻膠起源于美國，柯達KTFR光刻膠為光刻膠工業的開創者，光刻膠跟隨摩爾定律不斷演進。1950s貝爾實驗室嘗試開發首塊集成電路，半導體光刻膠由此誕生，并成為六七十年代半導體工業的主力體系，為半導體工業發展立下汗馬功勞。

一、光刻膠行業概述

1、行業定義

光刻膠是半導體，面板，PCB等領域加工制造中的關鍵材料。光刻膠是由樹脂，感光劑，溶劑，光引發劑等組成的混合液態感光材料。光刻膠應用的原理是利用光化學反應，經光刻工藝將所需要的微細圖形轉移到加工襯底上，來達到在晶圓上刻蝕出所需的圖形或抗離子注入的目的。

2、產業鏈

光刻膠產業鏈上游為原材料及設備，包括樹脂、溶劑、單體、光引發劑、生產設備以及檢測設備等；中游為光刻膠，主要包括PCB光刻膠、面板光刻膠、半導體光刻膠；下游為應用領域，光刻膠廣泛應用于PCB、半導體、面板顯示、芯片等。

二、全球光刻膠行業發展現狀分析

1、市場規模

當前光刻膠市場發展潛力巨大。根據北京研精畢智信息咨詢有限公司的數據顯示，2020年全球光刻膠市場規模約19億美元，2021年增長至20億美元。預計在2022年市場規模將增長到22億美元左右。

2、下游應用領域

從光刻膠下游應用領域分布情況看，全球光刻膠在面板顯示領域所占比重最高，約為28%。在半導體領域的應用比例為22%，其次是PCB領域，占比約23%。光刻膠在其他領域的占比攻擊約27%。

3、細分市場結構

北京研精畢智的數據顯示，全球光刻膠細分市場中，ArFi光刻膠和KrF光刻膠的市場份額最大，均在30%以上，分別為40%和33%。其次是g/I光刻膠，市場份額約為17%。ArF市場份額約10%。其他細分市場市場占比約1%。

4、競爭格局

目前全球的光刻膠生產企業主要集中在日本與美國，在最為尖端的ArF干法光刻膠、ArF浸沒式光刻膠和EUV光刻膠產品領域，日本與美國廠商擁有絕對的壟斷地位，而我國在這些尖端半導體光刻膠產品上雖有一定的技術儲備和產品驗證，但是在量產層面完全處于空白。

從全球市場來看，2021年行業CR6約為88%，市場集中度高。東京應化、JSR、住友化學、富士膠片四大日本企業分別占據27%、13%、12%、8%的市場份額，陶氏化學占據17%的市場份額，韓國東進占據11%的市場份額。

北京研精畢智信息咨詢是一家專業化市場調研公司，專注為國內、國際客戶提供市場調研服務，幫助公司識別當前的市場發展趨勢，發現需要解決的業務問題，協助企業降低業務風險，并提供有價值的細分市場數據，幫助客戶在市場上獲得相對于商業競爭對手的競爭優勢，主要業務：市場調研報告， 客戶委托調查項目、行業研究報告、定制報告。